光盘用溅镀设备
开发着与Blu-ray Disc，存档盘相对应的新概念的溅射装置。
特长
- 薄膜厚度的高均一性:±2.0%(绝对值)
（面向半透明层的溅镀源K-类型） - 发射回数∶100万次以上
- 以1台Si，Ag，Agx，Au，Al膜的成膜可能
只是换靶材可以对应5个膜形成 - 高操作性，高保养性
- 不改造可可以对CD(厚1.2mm)，DVD(厚0.6mm)，BD，存档盘进行溅射
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光盘用溅镀设备
Single Layer Sputtering Equipment